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    1001万円以上
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営業

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公開中の求人 1000 件中 1〜10件を表示(非公開求人も含めると 30276 件)

仕事内容 半導体製造装置(プラズマCVD、プラズマALD-薄膜形成装置)での装置制御
プログラムおよび制御部品の設計開発
応募資格
勤務地 神奈川県
予定年収 350万〜550万 ※経験に応ず
仕事内容 ■半導体製造装置のChamber(成膜反応炉)部分の設計開発
応募資格
勤務地 東京都
予定年収 350万〜550万 ※経験に応ず
仕事内容 半導体製造装置(プラズマCVD、プラズマALD-薄膜形成装置)
での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善、及び
デバイス層間絶縁膜(Low-k膜)、ゲート絶縁膜向けのHigh-k膜の新規...
応募資格
勤務地 東京都
予定年収 350万〜550万 ※経験に応ず
仕事内容 ■半導体製造装置のPlatform(装置基台)機構設計/開発
応募資格
勤務地 神奈川県
予定年収 350万〜550万 ※経験に応ず
仕事内容 同社製品の半導体製造装置(薄膜形成装置)
の装置設定調整・カスタマイズ(据え付け/立ち上げ対応)などのサービスエンジニア業務

【勤務地】:東京都多摩市の本社勤務にて顧客先へ向かって頂く形とな...
応募資格
勤務地 東京都
予定年収 400万〜600万 ※経験に応ず
仕事内容 同社製品の半導体製造装置(薄膜形成装置)
の装置設定調整・カスタマイズ(据え付け/立ち上げ対応)などのサービスエンジニア業務

【勤務地】:四日市勤務にて顧客先への常勤となります。
    ...
応募資格
勤務地 三重県
予定年収 400万〜600万 ※経験に応ず
仕事内容 同社製品の半導体製造装置(薄膜形成装置)
での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善

【勤務地】:四日市勤務にて顧客先への常勤となります。
      (四日市オフィスに出社後、車...
応募資格
勤務地 三重県
予定年収 350万〜500万 ※経験に応ず
仕事内容 同社製品の半導体製造装置(薄膜形成装置)
での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善

【勤務地】:四日市勤務にて顧客先への常勤となります。
      (四日市オフィスに出社後、車...
応募資格
勤務地 三重県
予定年収 400万〜700万 ※経験に応ず
仕事内容 同社製品の半導体製造装置(薄膜形成装置)
での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善

【勤務地】:東京都多摩市の本社勤務にて顧客先へ向かって頂く形となります。
【部署構成】:50名...
応募資格
勤務地 東京都
予定年収 350万〜500万 ※経験に応ず
仕事内容 同社製品の半導体製造装置(薄膜形成装置)
での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善

【勤務地】:東京都多摩市の本社勤務にて顧客先へ向かって頂く形となります。
【部署構成】:50名...
応募資格
勤務地 東京都
予定年収 400万〜700万 ※経験に応ず