機械・精密機器メーカー

電子ビームマスク描画装置の真空ユニットにおける機械設計

【ミッション】電子ビームマスク描画装置の世界シェアは90％以上を誇る同社にて電子ビームマスク描画装置を構成するユニットの機能開発、設計業務をお任せします。
業務拡大に伴う中核人材の確保、及び今後予想される定年退職の構成メンバーの人員補充を目的とした募集となります。
現在真空ユニットは20代の社員1名、30代の社員1名、50代の社員1名で担当しており、
業務拡大に伴う中核人材の確保、及び今後予想される定年退職の構成メンバーの人員補充を目的とした募集となります。

【具体的には】
主力製品である電子ビームマスク描画装置の機械設計担当として、電子ビームマスク描画装置構成ユニットの機能開発および設計業務をお任せいたします。
下記の役割毎にチームで業務に取り組んでおり、今回は３）４）を担当していただける方を募集しております。真空ユニットの設計は全て自社内で行っております。

１）サブユニットで電子線制御部分の設計
２）ステージ本体の設計
３）真空搬送ユニットの設計
４）装置にガスを導入、真空制御を行う部分の設計
５）外注担当部分の設計

【具体的な仕事内容・期待する役割】
１）ビームの性能を向上させるために部分的に真空度を上げていくこと：
真空度を向上させるために、材料や表面処理の改良、放出ガスの対策や、真空ポンプと真空チャンパー等を繋ぐ配管を短くしたり、表面積を小さくしたりするためのレイアウトを設計していただくことを期待しております。
３）ポンプのEOL対応：
既存装置の新規ポンプの選定や評価を行っていただきます。

【描画装置における真空ユニットの役割】
真空環境が電子ビームが空気中の分子と衝突することを防ぐため、描画する回路の質を担保する重要な役割を担っております。

【電子ビームマスク描画装置の魅力】
スマートフォンやタブレットPCなど、私たちの生活になくてはならない通信機器の高機能化、小型・軽量化に影響を与えている半導体集積回路（LSI）の大量生産に大きく貢献してる装置です。
こうした更なる高密度化、微細化が求められているLSIにおいて、その微細化し複雑になる回路パターンの描画を可能にするのが、当社の電子ビームマスク描画装置であり、半導体そのものの技術革新にとってなくてはならない存在となっております。
現在市場の9割ものシェアを誇り、更なる装置の技術進化に向けて研究・開発を続けており、未だ世にない最先端の技術に触れたい方にはぴったりの職場となります。

【組織構成】
29名（内機械設計担当：15名）

【採用背景】
業務拡大に伴う中核人材の確保、及び今後予想される定年退職の構成メンバーの人員補充を目的とした募集となります。現在真空ユニットは20代の社員1名、30代の社員1名、50代の社員1名で担当しており、業務拡大に伴う中核人材の確保、及び今後予想される定年退職の構成メンバーの人員補充を目的とした募集となります。

【働き方】
・フレックス制度：あり
・リモートワーク制度：あり（週平均2～3回）
・平均残業25時間程度
・転勤：原則発生しない
・有休所得日数：17.4日/年（対付与日数取得率：77％）　※全社平均

【企業の魅力】
同社は、世界トップシェアを獲得している電子ビームマスク描画装置（EBM）をはじめ、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心とした「半導体製造装置」の研究開発から製造、販売、保守まで手掛ける新進メーカーです。
海外売上比率80％以上と世界のグローバル最大手企業を顧客に事業展開を図っており、世界トップクラスの技術開発とモノづくりで、成長性や競争力に富む会社として市場から注目されている会社です。
■最先端技術の研究開発に力をいれており、技術に対して自由な雰囲気があります。
また、他社の追随を許さない高い技術力を維持するため、研究開発に大きな投資を続けており、研究開発費率22．6％と全製造業平均（4.81％）を大きく上回る比率であり、必要な開発提案であれば開発費注入はいとわず、常に最先端技術開発に携り主導的な開発を進める事ができる環境です