キオクシア株式会社

【三重】先端半導体前工程プロセスの研究開発※フレックス

■先端デバイスを開発するためにデバイスグループやインテグレーショングループと連携して業務を行います。
■300mmウェハでのデバイス・ロットを流すためにプロセス条件出しや環境整備を行います。
■工程で課題のあるプロセスについては課題の要因を抽出、解決するための物理モデル構築、それらのモデルを検証するために物理分析や化学分析を活用します。
■課題の要因が理解できたところで、対策プロセスを立案し、その結果を確認していきます。
■先端デバイスでは既存の装置では実現できない新規のプロセスが必要となります。
■新プロセスを実現するために装置メーカーとの共同開発、新規設備の導入をすることもあります。

【使用ツール】
半導体前工程の300mmウェハ装置を主に使用してプロセス開発を行います。クリーンルームでの作業もありますが、作業担当の方に依頼することが可能です。

【期待する役割】
■OCTRAMを始めとした先端デバイスを製造するための新プロセス開発に従事してもらう予定です。
■具体的にはデバイス形状を造るリソグラフィ、ドライ加工、ウェット、CMPなどのプロセス、及びデバイス特性を司る絶縁膜成膜、導電体成膜などのプロセスが対象となります。

【採用背景】
人工知能(A.I.)の性能向上に伴い、A.I.は日常生活に無くてはならないツールとなっています。将来的には更なる性能向上と活用される分野が増大することが予想されています。A.I.の活用による計計算量の飛躍的な増大とそれに伴うデータセンターなどで使用する電力の消費が社会問題になりつつあります。
キオクシアでは高性能かつ消費電力を削減可能なメモリであるOCTRAM(Oxide Channel Transistor RAM)を開発しています。まだ研究開発段階ではありますが完成度を早期に上げ、製品化をしたいと考えています。OCTRAMの製造プロセスを開発して頂ける方を募集しています。製品化のための研究開発により社会問題の解決を一緒にしませんか。

【組織のミッション】
優れた特性を持つ材料やプロセスを300mmウェハ上で検証し、新デバイス開発に活用することがミッションとなります。デバイス開発を通じて新デバイスの特性や製造容易性を確認することで量産可能性を検証し、次のビジネスの柱を築くことになります。

【業務のやりがい・魅力】
世の中にアピールすることができる消費電力が低い新メモリデバイスを開発しています。製品化を実現できれば、会社のビジネス拡大に寄与することができます。さらには低消費電力のデバイス利用が拡大することで膨大な電力を消費するデータセンターの消費電力を削減し、社会貢献することができます。

【技術優位性】
学会でも注目を集める低消費電力デバイス：OCTRAMの開発を行っています。最先端のデバイスを製造するために最先端のプロセスを一緒に開発しませんか。

【キャリアパスイメージ】
担当するユニットプロセスの専門性を高めると同時に経験を積んでもらいます。同時に開発するデバイスについての知識も習得して頂き、担当する工程に真に求められるスペックが何かを自ら提案できるようになってもらいたいと思います。将来的には複数のユニットプロセスと連携し、総合的な最適化ができるような技術者を目指してもらいたいと考えています。

2019年10月1日より、新会社としてスタートを切りました。新社名である「キオクシア」には、「『記憶』とギリシャ語で価値を表すアクシア（axia）を合わせたものです。社会が生み出す記憶を蓄え、活用し、新しい価値を創造して世界を変えていくという強い意志が込められております。
■2017年4月に設立した新しい会社ですが、海外現地法人を12社抱えるなど、グローバルに事業を展開。同社が扱うNAND型フラッシュメモリは世界シェア2位と、高いシェアを持っております。
【特徴】
■NAND型フラッシュメモリは、スマホ、タブレット等を牽引役として今後も需要の拡大が見込まれており、他社に先駆けて微細化および大容量化を進め、業界をリードしてきました。近年ビックデータ、IOT分野への需要も高まっていることから、同社への期待は高まり続けています。
■半導体分野では、デジタル機器のデータ記憶に不可欠なメモリ、演算処理など高度な機能を担うシステムLSI(Large Scale Integration)、幅広い機器に搭載されているディスクリート(個別半導体)の3つの事業分野で成長を遂げ、世界トップグループの位置を堅持しています。
■同社の四日市工場は東京ドーム約10個分という44万m2の広大な敷地があり、半導体開発の“聖地”として、製造・開発を進めております。

• リモートワーク可

＜経験・スキル＞

【必須要件】
・物理・化学・材料工学などの理工学系基礎知識を有し、それらをベースとしたデータ解析・課題解決（物理モデル構築や要因解析など）の実務経験

【歓迎要件】
・EDSやXPS等の分析についての一般的な知識
・半導体前工程におけるプロセス開発、または半導体製造装置の開発実務経験（経験年数不問）
・特定のユニットプロセス（リソグラフィ、ドライエッチング、ウェット洗浄、CMP、成膜など）における深い専門性や知見
・酸化物半導体（Oxide Semiconductor）や新材料を用いたデバイス・プロセス開発の経験
・300mmウェハ製造ラインでの開発・運用経験
・各種物理・化学分析（例：SEM、TEM、EDS、XPS、SIMSなど）の実務経験、または分析結果に基づくプロセス最適化の経験
・半導体製造装置メーカーとの共同開発や、新規設備の導入・立ち上げを主導した経験
・英語力（目安：TOEIC 600点以上、または英語での仕様書読解・海外メーカーとの実務経験）