機械・精密機器メーカー

電子ビームマスク描画装置の次世代装置開発リーダー/在宅週２

【ミッション】電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをお任せします。
【業務内容】
電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。

・次々世代描画装置のシステム・要素開発
次々世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通して装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
※他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。また次々世代装置に必要なキーパーツの要素開発を先行して行うための企画検討を行う業務も兼ねます。

・次世代描画装置におけるシステム・要素開発
技術ロードマップから直近必要な次世代描画装置のシステム設計仕様をまとめ、他部署に要求仕様を提案し、開発の進捗管理、開発に必要な設備提案、開発されたシステムが仕様を満たしているか評価・検討して他部署やプロジェクトそのものをまとめあげるプロジェクトリーダー／マネージャー業務となります。
次世代装置を顧客や学会発表でプレゼンし、次世代装置に対するVOCをキャッチし、社内にフィードバックして装置性能を早期に向上させるミッションも重要な業務となります。
※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。

【採用背景】
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。
こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。

【働き方】
柔軟に働けるフレックスタイム制、リモートワーク可（平均週2日程度）。
休暇制度も整っており、完全週休2日制（土・日・祝）で年間休日は125日以上。
技術力、歩留りやダウンタイムの抑制といった生産性は勿論、顧客の生産フェーズまでを見据えた総保有コストの低減を提供していくことが必要となります。顧客にとって生産性の高い価値ある製品を投入していくことが次世代装置開発に求められる課題となります。