エピタキシャル プロセスエンジニア電気・電子・半導体商社
電気・電子・半導体商社
・MOCVDによるInP系化合物半導体エピ層の成膜・評価・改善業務・結晶品質評価(XRD、PL、AFM、SEM、TEM等)に基づく工程最適化・成膜条件(温度・圧力・V/III比・キャリアガス流量等)の制御と再現性確保・歩留まり改善/成長不具合解析(層厚ムラ・組成偏差・欠陥発生メカニズム解明)・結晶成長工程における新装置導入・能力改善プロジェクトの推進・光デバイス設計/プロセス統括部門との連携による新製品向けエピ構造設計支援
- 年収
- 年収非公開
- 職種
- 生産技術・プロセス開発
更新日 2025.12.09